GL8 MLA Gen2是一种专门为微透镜阵列（Microlens Array-MLA）量产以及晶圆级堆叠开发的全自动紫外纳米压印光刻设备，可在200/300mm基底面积上平行复制生产聚合物光学器件。
该设备支持从晶圆级母模具表面自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高、寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。内置的高精度自动点胶系统、APC（主动模具基底平行控制）技术、以及自动脱模功能都保证了大面积晶圆级光学器件生产的精度、均匀性（TTV）与良率。同时，自动模具基底对位系统还可实现晶圆之间对位堆叠工艺（Wafer Level Stacking-WLS）。GL8 MLA Gen2纳米压印设备适用于DOE、匀光片（Diffuser）、微透镜阵列、菲涅尔透镜等产品的研发和量产。
经过量产验证的200 mm晶圆级光学生产（WLO）设备；
APC主动模具基底平行控制技术，确保大面积晶圆压印TTV均匀性；
设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本；
内置自动点胶功能；
自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预；
标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>1000mW/cm2），水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料；
标配设备内部洁净环境与除静电装置；
随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括标准示范WLO等工艺流程，助力客户快速实现低成本、高效率量产。
兼容基底尺寸 |
2inch/100mm/150mm/200mm 圆形基底 特殊尺寸可定制 |
支持基底材料 |
硅片、玻璃、石英、塑料、金属等 |
上下片方式 |
手动上下片 |
晶圆预对位 |
光学巡边预对位 |
纳米压印技术 |
紫外纳米压印（UV-NIL），APC主动平行控制技术，适合大面积WLO/WLS等工艺 |
压印精度 |
优于10 nm* |
结构深宽比 |
优于10:1* |
TTV控制 |
微米级精度*（200mm晶圆） |
紫外固化光源 |
紫外LED（365nm）面光源，光强>1000mW/cm2，水冷冷却（2000mW/cm2类型光源可选配） |
设备内部环境控制 |
标配，外部环境Class 100，内部环境优于Class 10* |
自动压印 |
支持 |
自动脱模 |
支持 |
自动工作模具复制 |
支持 |
模具基底对位功能 |
自动对位 |
* 参数取决于模具、材料、工艺和使用环境，非设备极限
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