GL P2 CLIV是天仁微纳新型面板级全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho into Vacuum）压印技术，可在G2面板（370x470mm）上实现高精度（优于10nm*）、高深宽比（优于10：1*）纳米结构复制。
该设备支持自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高、寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。CLIV技术的应用保证了压印结构的精度与高深宽比结构的完整填充，同时保证了大面积结构压印均匀性。GL P2 CLIV纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列、裸眼3D等应用领域的研发和量产。
2代线面板级高精度、高深宽比结构纳米压印设备；
CLIV技术，确保压印结构精度与填充完整性；
设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本；
工作模具自动更换，适合连续生产；
自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预；
标配高功率紫外LED线光源（365nm，光强>2000mW/cm2），水冷冷却，掩模区域曝光功能、面光源、特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，完美支持各种商用纳米压印材料与制程；
标配设备内部洁净环境与除静电装置；
随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构以及微透镜阵列、柱状透镜阵列等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平。
兼容基底尺寸 |
200mm&300mm晶圆、300x300mm、370x470mm 特殊尺寸可定制 |
支持基底材料 |
硅片、玻璃、石英、塑料、金属等 |
上下片方式 |
单片机械手自动上下片 |
纳米压印技术 |
紫外纳米压印（UV-NIL），CLIV技术，适合高精度、高深宽比纳米结构压印 |
压印精度 |
优于10纳米* |
结构深宽比 |
优于10比1* |
残余层控制 |
小于10nm* |
紫外固化光源 |
紫外LED（365nm）线光源，光强>2000mW/cm2，水冷冷却（面光源以及掩模区域曝光功能可选配） |
设备内部环境控制 |
标配，外部环境class 100，内部环境优于Class 10* |
自动压印 |
支持 |
自动脱模 |
支持 |
自动工作模具复制 |
支持 |
自动工作模具更换 |
支持 |