在刚刚闭幕的国际光电工程学会（SPIE）AR|VR|MR展会上，国内领先的纳米压印光刻设备提供商——天仁微纳，以其前沿技术成果和一站式解决方案成为展会焦点，充分展现了中国企业在微纳光学制造领域的强劲实力。
展会期间，天仁微纳重点展示了面向增强现实、虚拟现实及混合现实应用的高精度纳米压印设备与工艺技术。其展出的纳米压印光刻系统可实现纳米级分辨率及高深宽比结构复制，特别适用于AR光波导衍射光栅、微透镜阵列、纳米孔等微纳结构的规模化生产。其推出的310mm 方片全自动纳米压印生产线不仅满足了下一代显示光学对精度、一致性和量产能力的严苛要求，更在成本控制与生产效率方面具备显著优势。
天仁微纳的技术专家团队与来自全球的AR/VR头部企业、顶尖研究机构及行业专家进行了深入的技术交流。公司展示了其从设备研发、工艺开发到量产支持的一站式服务能力，获得与会专业观众的高度认可。
此次参展进一步巩固了天仁微纳在全球微纳制造领域的品牌影响力。公司表示将持续加大研发投入，以自主创新为核心驱动力，致力于为AR/VR/MR产业提供更具竞争力的微纳光学制造解决方案。