UniPrinter是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，功能强大的台面型纳米压印光刻设备。
GL200/300 Cluster是模块化的全自动纳米压印生产线，集成了从纳米压印基材清洗、涂胶、烘烤、冷却直至纳米压印全套工艺步骤。
GL8/12 CLIV是一种全幅面紫外纳米压印设备，支持GermanLitho专利CLIV（Contact Litho inVacuum）压印技术，可实现200/300mm基底面积上高精度（优于20nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。
GL8 MLA是一种专门为晶圆级光学加工（WLO-Wafer Level Optics）开发的高精度紫外纳米压印设备，可在200mm基底面积上平行复制生产聚合物光学器件。
GL4/6 R&D是一种多功能紫外纳米压印设备，通过简单的夹具更换可以在旋涂压印胶高精度压印、点胶微透镜压印和三维曲面压印模式之间快速切换，可实现100/150mm基底面积上高精度（优于20nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构、微米至毫米尺度微透镜阵列、矢高不超过10mm三维曲面表面微纳结构的压印复制。
GL SR300是一种步进式紫外纳米压印设备，可以在300mm尺寸基底上加工精度优于20纳米的三维结构，还可以用于将小面积纳米压印模具通过步进式压印拼接成大面积压印母模具。
天仁微纳公司产品与服务涵盖纳米压印相关的设备、模具、材料、工艺以及生产咨询服务。如需了解详情，请点击在线浏览或者下载查看。