UniPrinter是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，功能强大的台面型纳米压印光刻设备。
GL200/300 Cluster是模块化的全自动纳米压印生产线，集成了从纳米压印基材清洗、涂胶、烘烤、冷却直至纳米压印全套工艺步骤。
GL8/12 CLIV Gen2是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备，支持天仁微纳专利CLIV（Contact Litho in Vacuum）压印技术，可实现200/300mm基底面积上高精度（优于10nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。
GL8 MLA Gen2是一种专门为晶圆级光学加工（WLO-Wafer Level Optics）开发的全幅紫外纳米压印设备，可在200mm基底面积上平行复制生产聚合物光学器件。
GL4 R&D是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，功能强大的多功能研发型纳米压印光刻设备。通过简单的夹具更换，可以实现旋涂压印胶高精度纳米结构压印和点胶大矢高结构自动找平压印模式之间的快速切换。
GL SR300是一种步进式紫外纳米压印设备，可以在300mm尺寸基底上加工精度优于20纳米的三维结构，还可以用于将小面积纳米压印模具通过步进式压印拼接成大面积压印母模具。
天仁微纳公司产品与服务涵盖纳米压印相关的设备、模具、材料、工艺以及生产咨询服务。如需了解详情，请点击在线浏览或者下载查看。