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GL300 MLA200/300mm WLO工艺量产型紫外纳米压印光刻设备 晶圆级光学器件加工(WLO)

GL300 MLA是天仁微纳最新型专门为晶圆级光学加工(WLO-Wafer Level Optics)开发的全自动紫外纳米压印光刻设备,可在200/300 mm基底面积上平行复制生产聚合物光学器件。

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GL300 MLA

GL150/300 CLIV150/300mm 量产型高精度紫外纳米压印光刻设备

GL150/300 CLIV 是天仁微纳最新型全自动高精度紫外纳米压印设备,标配天仁微纳CLIV(Contact Litho in Vacuum)压印技术,可实现最大150/300mm基底面积上高精度(优于10nm )、高深宽比(优于10比1 )纳米结构复制量产。

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GL150/300 CLIV

研发型Desktop纳米压印光刻设备UniPrinter

UniPrinter是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计,操作简单、功能强大的台面型纳米压印光刻设备。

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研发型Desktop纳米压印光刻设备

GL300 Cluster200/300 mm 全自动纳米压印光刻生产线

GL300 Cluster是模块化的全自动纳米压印生产线,集成了从纳米压印基底清洗、涂胶、烘烤、冷却直至纳米压印全套工艺步骤。

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GL300 Cluster

GL8 CLIV Gen2200mm 高精度紫外纳米压印光刻设备

GL8 CLIV Gen2是天仁微纳新型全幅高精度紫外纳米压印设备,标配天仁微纳CLIV(Contact Litho in Vacuum)压印技术,可实现200mm基底面积上高精度(优于10nm )、高深宽比(优于10比1 )纳米结构复制量产。

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GL8 CLIV Gen2

GL8 MLA Gen2200mm WLO工艺紫外纳米压印光刻设备 晶圆级光学器件加工(WLO)

GL8 MLA Gen2是一种专门为晶圆级光学加工(WLO-Wafer Level Optics)开发的全幅紫外纳米压印设备,可在200mm基底面积上平行复制生产聚合物光学器件。

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GL8 MLA Gen2
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