200/300 mm 全自动纳米压印光刻生产线 下一条上一条 < 返回

GL200/300 Cluster
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GL200/300 Cluster是模块化的全自动纳米压印生产线,集成了从纳米压印基材清洗、涂胶、烘烤、冷却直至纳米压印全套工艺步骤。标配GermanLitho专利CLIV(Contact Litho inVacuum)压印技术,可实现200/300mm基底面积上全自动高精度(优于20nm )、高深宽比(优于10比1 )纳米结构复制量产。设备采用模块化设计,用户可以根据工艺需求和生产节奏自由配置清洗、涂胶、烘烤、冷却以及压印的模块数量,达到最优的生产效率。设备支持自动工作模具复制、自动预处理和压印、自动脱模,整个工艺过程在局部洁净环境中进行,以保证压印结果质量。

GL200/300 Cluster纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、生物芯片、LED等应用领域的量产。


主要功能

●全自动200/300mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印生产线
●GermanLitho专利CLIV技术,确保压印结构精度与结构填充完整性
●设备内自动复制柔性复合工作模具,降低大面积纳米压印模具使用成本
●全自动预处理步骤,包括基材兆声波清洗、旋涂匀胶、烘烤、冷却
●自动压印、自动曝光固化、自动脱模,工艺过程在局部洁净环境中自动进行,以保证压印质量
●标配高功率紫外LED面光源(365nm,光强>1000mW/cm2 ),水冷冷却,特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制,完美支持各种商用纳米压印材料
●产能可大于100片每小时,适合DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、生物芯片、LED等应用领域的量产
●随机提供全套纳米压印工艺与材料,包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程,帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平


相关照片

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相关参数

兼容基底尺寸

200mm(GL200 Cluster)
300mm(GL300 Cluster)
特殊尺寸可定制

支持基底材料

硅片、玻璃、石英、塑料、金属等

上下片方式

Cassette to cassette全自动上下片

晶圆预对位

光学巡边预对位

纳米压印技术 专利CLIV技术,适合高精度、高深宽比纳米结构压印
压印精度 优于10纳米*
结构深宽比 优于10比1*
残余层控制 可小于10nm*
紫外固化光源 紫外LED(365nm)面光源,光强>200mW/cm2,水冷冷却(2000mW/cm2类型光源可选配)
设备内部环境控制 标配,外部环境Class 100,内部环境可达Class 10
自动压印 支持
自动脱模

自动工作模具复制

支持

模具基底对位功能

自动对位(选配)

产能

可大于100片每小时*


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