GL200/300 Cluster是模块化的全自动纳米压印生产线，集成了从纳米压印基材清洗、涂胶、烘烤、冷却直至纳米压印全套工艺步骤。标配GermanLitho专利CLIV（Contact Litho inVacuum）压印技术，可实现200/300mm基底面积上全自动高精度（优于20nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构复制量产。设备采用模块化设计，用户可以根据工艺需求和生产节奏自由配置清洗、涂胶、烘烤、冷却以及压印的模块数量，达到最优的生产效率。设备支持自动工作模具复制、自动预处理和压印、自动脱模，整个工艺过程在局部洁净环境中进行，以保证压印结果质量。
GL200/300 Cluster纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、生物芯片、LED等应用领域的量产。