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GL8/12 CLIV
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GL8/12 CLIV是一种全幅面紫外纳米压印设备,支持GermanLitho专利CLIV(Contact Litho inVacuum)压印技术,可实现200/300mm基底面积上高精度(优于20nm )、高深宽比(优于10比1 )纳米结构复制量产。

该设备支持自动复制柔性复合工作模具,工作模具具有精度高,寿命长等特点,可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。专利CLIV技术的应用保证了大面积纳米压印过程中结构精度与高深宽比结构的完整填充,同时保证了大面积结构压印均匀性。

GL8/12 CLIV纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、生物芯片、LED等应用领域的量产。

主要功能

● 经过量产验证的200/300mm大面积、高精度、高深宽比纳米压印

● GermanLitho专利CLIV技术,确保压印结构精度与结构填充完整性

● 设备内自动复制柔性复合工作模具,降低大面积纳米压印模具使用成本

● 自动压印、自动曝光固化、自动脱模,工艺过程无需人工干预

● 标配高功率紫外LED面光源(365nm,光强>1000mW/cm2 ),水冷冷却,特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制,完美支持各种商用纳米压印材料

● 标配设备内部洁净环境与除静电装置

● 产能可大于40片每小时,适合产品研发与量产应用

● 随机提供全套纳米压印工艺与材料,包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构等工艺流程,帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平

相关照片

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相关参数

兼容基底尺寸 50mm-200mm(GL8 CLIV);50mm-300mm(GL12 CLIV)
支持基底材料 硅片、玻璃、石英、塑料、金属等
纳米压印技术 专利CLIV技术,适合高精度、高深宽比纳米结构压印
压印精度 优于20纳米*
结构深宽比 优于10比1*
残余层控制 可小于10nm*
紫外固化光源 紫外LED(365nm)面光源,光强>1000mW/cm2,水冷冷却(2000mW/cm2类型光源可选配)
设备内部环境控制 标配,外部环境Class 100,内部环境可达Class 10
自动压印 支持
自动脱模 支持
自动工作模具复制 支持
模具基底对位功能 选配
产能 可大于40片每小时*

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