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GL4/6 R&D
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GL4/6 R&D是一种多功能紫外纳米压印设备,通过简单的夹具更换可以在旋涂压印胶高精度压印、点胶微透镜压印和三维曲面压印模式之间快速切换,可实现100/150mm基底面积上高精度(优于20nm )、高深宽比(优于10比1 )纳米结构、微米至毫米尺度微透镜阵列、矢高不超过10mm三维曲面表面微纳结构的压印复制。

该设备支持自动复制柔性复合工作模具,工作模具具有精度高,寿命长等特点,可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。高精度纳米压印、微透镜压印和三维曲面压印模式均支持自动压印、曝光固化、自动脱模,无需人为干预,最大限度的保证工艺可靠性。
GL4/6 R&D纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、生物芯片、LED、匀光片(Diffuser)、微透镜阵列、菲涅尔透镜等应用领域的产品研发。


主要功能

●可通过简单的夹具更换在旋涂压印胶高精度纳米压印、点胶微透镜压印、三维曲面表面压印功能  间切换
●设备内自动复制柔性复合工作模具,降低大面积纳米压印模具使用成本
●自动压印、自动曝光固化、自动脱模,工艺过程无需人工干预
●微透镜压印功能可选配自动点胶装置
●标配高功率紫外LED面光源(365nm,光强>500mW/cm2 ),水冷冷却,特殊功率以及特殊、混  合波长光源可订制,完美支持各种商用纳米压印材料
●标配设备内部洁净环境与除静电装置
●随机提供全套纳米压印工艺与材料,包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构、微透镜阵  列、匀光片(Diffuser)等工艺流程,帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平


相关照片

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相关参数

兼容基底尺寸 <100mm(GL4 R&D);<150mm(GL6 R&D)
支持基底材料 硅片、玻璃、石英、塑料、金属等
纳米压印技术 旋涂压印胶高精度纳米压印、点胶微透镜压印、三维曲面表面压印(功能选配)
压印精度 优于20纳米*
结构深宽比 优于10比1*
残余层控制 可小于10nm*
紫外固化光源 紫外LED(365nm)面光源,光强>500mW/cm2,水冷冷却
设备内部环境控制 标配,外部环境Class 1000,内部环境可达Class 100
自动压印 支持
自动脱模 支持
自动工作模具复制 支持
自动点胶 选配

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