●沿用天仁微纳量产型纳米压印设备的工艺与材料体系，开发的工艺可以无障碍转移到量产设备上进行生产
●可实现旋涂胶基底压印和点胶自动找平压印模式间快速切换
●最大压印面积Φ100mm
●设备内可自动复制柔性复合工作模具
●压印旋涂胶基底模式可实现自动压印、自动曝光固化、自动脱模
●点胶压印模式可实现自动找平，主动控制模具与基底之间间隙，实现微米级TTV控制
●标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>300mW/cm2 ），完美支持各种纳米压印材料
●可选配模具基底对位系统
●随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构、微透镜阵列、匀光片结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际领先的纳米压印水平