GL4/6 R&D是一种多功能紫外纳米压印设备，通过简单的夹具更换可以在旋涂压印胶高精度压印、点胶微透镜压印和三维曲面压印模式之间快速切换，可实现100/150mm基底面积上高精度（优于20nm ）、高深宽比（优于10比1 ）纳米结构、微米至毫米尺度微透镜阵列、矢高不超过10mm三维曲面表面微纳结构的压印复制。
该设备支持自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高，寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。高精度纳米压印、微透镜压印和三维曲面压印模式均支持自动压印、曝光固化、自动脱模，无需人为干预，最大限度的保证工艺可靠性。
GL4/6 R&D纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、生物芯片、LED、匀光片（Diffuser）、微透镜阵列、菲涅尔透镜等应用领域的产品研发。