GL4 R&D是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，功能强大的多功能研发型纳米压印光刻设备。通过简单的夹具更换，可以实现旋涂压印胶高精度纳米结构压印和点胶大矢高结构自动找平压印模式之间的快速切换。可实现直径100mm以下基底面积上高精度（优于10nm * ）、高深宽比（优于10比1 * ）以及微透镜阵列等微纳结构压印，适合用作紫外纳米压印光刻工艺开发，器件原型快速验证，纳米压印材料测试等研发。它沿用天仁微纳量产型纳米压印设备的工艺与材料体系，在GL4 R&D上开发的工艺可以无障碍转移到量产设备上进行生产。
GL4 R&D纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列、匀光片等应用领域的研发。